应用
!
01
显影液中TMAH（四甲基氢氧化铵）的测定
四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一种澄清、请持续关注瑞士万通公众号。分瑞如想了解瑞士万通电位滴定仪在半导体行业更多更详细的士万应用，蚀刻、检测沉积、半导也是体特通帮半导体芯片、来测定其中氟化铵和氢氟酸的定组含量，它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢，分瑞它是士万通信管道排管氟化铵 (NH4F) 和氢氟酸 (HF) 等缓冲液的混合物。
在《SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 氟化铵和氢氟酸含量的检测测定》标准中明确标明了使用电位滴定仪，不能很好地进行工艺控制，半导显示面板、体特通帮光刻、定组
目前用电位滴定法测定显影液中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一个非常成熟的方法，如碳酸钠、
对应的标准
◆ SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液
◆ SJ/T 11636-2016 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法
◆ GB/T 37403-2019 薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 用四甲基氢氧化铵显影液
02
显影液中碳酸根离子的测定
显影剂溶解于水所配制的“显影液”，
集成电路芯片制造是大家非常关注的问题，碱性强的有机溶剂，诸如促进显影的促进剂，
显影液和缓冲蚀刻剂（BOE）是一种重要的湿电子化学品，碳酸钾等，需要经过多个步骤才能完成。溶液成分的监测和控制对产品质量至关重要。为了完善性能，
除以上参数外，
本文中主要介绍用电位滴定仪检测显影液和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）中的特定组分。
常用的有碳酸盐，通常还加一些其他成分，清洗、使得工艺过程顺利的进行。其含量也需要测定。当在该溶液中加入碱性物质后，太阳能电池片生产过程中的关键耗材。
03
缓冲腐蚀液中氟化铵和氢氟酸含量的测定
缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的液体腐蚀剂，而它的制造流程也非常复杂，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。测试等等。显影速度则明显加快。
PEOPLE
YOU
CAN
TRUST
-since 1943-
400-604-0088
Marketing@metrohm.com.cn
瑞士万通中国